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Efetor final para manuseio de wafers de alumina em cerâmica semicondutora
Evitar a dispersão de partículas que podem ser geradas pelas bordas chanfradas ou angulares e pela superfície traseira durante o transporte dos wafers ou quando estes entram em contato com o atuador final/braço de manuseio.
Para as guias, foi adotado um material macio que não danifica o wafer.
O afinamento é possível graças à tecnologia de canal de vácuo integrada da ST.CERA, que não utiliza adesivos.
É possível fazer furos de montagem e alterar o comprimento e a largura da base onde o atuador final/braço de manipulação é montado no robô.
Sensores de montagem, parafusos e suportes estão disponíveis como opcionais.
Projetado para ser usado na atmosfera.
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Manuseio de wafers do atuador final cerâmico
Evitar a dispersão de partículas que podem ser geradas pelas bordas chanfradas ou angulares e pela superfície traseira durante o transporte dos wafers ou quando estes entram em contato com o atuador final/braço de manuseio.
Para as guias, foi adotado um material macio que não danifica o wafer.
O afinamento é possível graças à tecnologia de canal de vácuo integrada da ST.CERA, que não utiliza adesivos.
É possível fazer furos de montagem e alterar o comprimento e a largura da base onde o atuador final/braço de manipulação é montado no robô.
Sensores de montagem, parafusos e suportes estão disponíveis como opcionais.
Projetado para ser usado na atmosfera.
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Braço de manuseio de wafers de cerâmica de alumina de precisão para semicondutores.
Graças às suas características de alta resistência à temperatura, resistência à corrosão, resistência à abrasão e isolamento, a cerâmica pode ser utilizada por longos períodos em diversos tipos de equipamentos de produção de semicondutores, mesmo em condições de alta temperatura, vácuo ou gases corrosivos.
Fabricado a partir de pó de alumina de alta pureza, processado por prensagem isostática a frio, sinterização a alta temperatura e acabamento de precisão, pode atingir uma tolerância dimensional de ±0,001 mm, acabamento superficial Ra 0,1 e resistência à temperatura de 1600℃.
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Braço de cerâmica de alumina isolado para componentes de equipamentos semicondutores
Evitar a dispersão de partículas que podem ser geradas pelas bordas chanfradas ou angulares e pela superfície traseira durante o transporte dos wafers ou quando estes entram em contato com o atuador final/braço de manuseio.
Para as guias, foi adotado um material macio que não danifica o wafer.
O afinamento é possível graças à tecnologia de canal de vácuo integrada da ST.CERA, que não utiliza adesivos.
É possível fazer furos de montagem e alterar o comprimento e a largura da base onde o atuador final/braço de manipulação é montado no robô.
Sensores de montagem, parafusos e suportes estão disponíveis como opcionais.
Projetado para ser usado na atmosfera
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Braço de cerâmica para manuseio de wafers com precisão e formatos complexos.
Evitar a dispersão de partículas que podem ser geradas pelas bordas chanfradas ou angulares e pela superfície traseira durante o transporte dos wafers ou quando estes entram em contato com o atuador final/braço de manuseio.
Para as guias, foi adotado um material macio que não danifica o wafer.
O afinamento é possível graças à tecnologia de canal de vácuo integrada da ST.CERA, que não utiliza adesivos.
É possível fazer furos de montagem e alterar o comprimento e a largura da base onde o atuador final/braço de manipulação é montado no robô.
Sensores de montagem, parafusos e suportes estão disponíveis como opcionais.
Projetado para ser usado na atmosfera
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Braço robótico de cerâmica de alumina com alta resistência ao desgaste e dureza.
Evitar a dispersão de partículas que podem ser geradas pelas bordas chanfradas ou angulares e pela superfície traseira durante o transporte dos wafers ou quando estes entram em contato com o atuador final/braço de manuseio.
Para as guias, foi adotado um material macio que não danifica o wafer.
O afinamento é possível graças à tecnologia de canal de vácuo integrada da ST.CERA, que não utiliza adesivos.
É possível fazer furos de montagem e alterar o comprimento e a largura da base onde o atuador final/braço de manipulação é montado no robô.
Sensores de montagem, parafusos e suportes estão disponíveis como opcionais.
Projetado para ser usado na atmosfera
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Manuseio de wafers com atuador final de cerâmica de alumina
Graças às suas características de alta resistência à temperatura, resistência à corrosão, resistência à abrasão e isolamento, a cerâmica pode ser utilizada por longos períodos em diversos tipos de equipamentos de produção de semicondutores, mesmo em condições de alta temperatura, vácuo ou gases corrosivos.
Fabricado a partir de pó de alumina de alta pureza, processado por prensagem isostática a frio, sinterização a alta temperatura e acabamento de precisão, pode atingir uma tolerância dimensional de ±0,001 mm, acabamento superficial Ra 0,1 e resistência à temperatura de 1600℃.
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Componentes mecânicos de cerâmica para equipamentos especiais
Evitar a dispersão de partículas que podem ser geradas pelas bordas chanfradas ou angulares e pela superfície traseira durante o transporte dos wafers ou quando estes entram em contato com o atuador final/braço de manuseio.
Para as guias, foi adotado um material macio que não danifica o wafer.
O afinamento é possível graças à tecnologia de canal de vácuo integrada da ST.CERA, que não utiliza adesivos.
É possível fazer furos de montagem e alterar o comprimento e a largura da base onde o atuador final/braço de manipulação é montado no robô.
Sensores de montagem, parafusos e suportes estão disponíveis como opcionais.
Projetado para ser usado na atmosfera
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Usinagem de precisão e estampagem de barras cerâmicas de alumina
Fabricada com pó cerâmico de alta pureza, a haste cerâmica é formada por prensagem a seco ou prensagem isostática a frio, sinterizada em alta temperatura e, em seguida, usinada com precisão. Apresenta diversas vantagens, como resistência à abrasão e à corrosão, alta dureza, alta tenacidade e baixo coeficiente de atrito, sendo amplamente utilizada em equipamentos médicos, máquinas de precisão, lasers, metrologia e equipamentos de inspeção. Pode operar em ambientes ácidos e alcalinos por longos períodos, suportando temperaturas máximas de até 1600 °C.
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Cerâmica de precisão de alumina para uso personalizado
Peças estruturais de cerâmica é um termo geral que engloba diversas peças cerâmicas de formatos complexos. Elas são formadas por prensagem a seco ou prensagem isostática a frio, sinterizadas em alta temperatura e, em seguida, usinadas com precisão.
Fabricado a partir de pó de alumina de alta pureza, processado por prensagem isostática a frio, sinterização a alta temperatura e acabamento de precisão, pode atingir uma tolerância dimensional de ±0,001 mm, acabamento superficial Ra 0,1 e resistência à temperatura de 400℃ a 800℃.
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Anel de cerâmica de precisão em alumina
Formadas por prensagem isostática a frio e sinterizadas em alta temperatura, e posteriormente usinadas e polidas com precisão, as peças de reposição cerâmicas atendem a quaisquer requisitos rigorosos de equipamentos semicondutores, graças às suas características de resistência ao desgaste, resistência à corrosão, baixa expansão térmica e isolamento. A cerâmica pode operar em diversos tipos de equipamentos de produção de semicondutores, mesmo em condições de alta temperatura, vácuo ou gases corrosivos, por longos períodos.
Fabricado a partir de pó de alumina de alta pureza, processado por prensagem isostática a frio, sinterização a alta temperatura e acabamento de precisão, pode atingir uma tolerância dimensional de ±0,001 mm, acabamento superficial Ra 0,1 e resistência à temperatura de 1600℃.
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braço de cerâmica de alumina
Formadas por prensagem isostática a frio e sinterizadas em alta temperatura, e posteriormente usinadas e polidas com precisão, as peças de reposição cerâmicas atendem a quaisquer requisitos rigorosos de equipamentos semicondutores, graças às suas características de resistência ao desgaste, resistência à corrosão, baixa expansão térmica e isolamento. A cerâmica pode operar em diversos tipos de equipamentos de produção de semicondutores, mesmo em condições de alta temperatura, vácuo ou gases corrosivos, por longos períodos.
Fabricado a partir de pó de alumina de alta pureza, processado por prensagem isostática a frio, sinterização a alta temperatura e acabamento de precisão, pode atingir uma tolerância dimensional de ±0,001 mm, acabamento superficial Ra 0,1 e resistência à temperatura de 1600℃.
