Anel cerâmico de alumina de alta pureza para câmaras de processo CVD/PVD
O anel cerâmico da St.Cera foi projetado especificamente para uso em câmaras de processo CVD (Deposição Química de Vapor) e PVD (Deposição Física de Vapor). Fabricado com alumina de alta pureza (Al₂O₃) a 99,8%, este anel serve como revestimento da câmara, anel de focalização ou componente de kit de processo para confinar o plasma e proteger as paredes da câmara contra erosão. O material oferece excelente resistência ao plasma, alta rigidez dielétrica (15×10⁶ V/m) e estabilidade térmica de até 1600 °C, garantindo longa vida útil em ambientes agressivos de plasma à base de flúor. Tolerâncias dimensionais precisas (±0,05 mm no diâmetro interno/externo) e planicidade (≤10 μm) permitem o posicionamento consistente da borda do wafer, melhorando a uniformidade da deposição e reduzindo a geração de partículas.
Especificações (com base em Al₂O₃ 99,8%):
| Propriedade | Valor |
| Material | 99,8% de alumina (marfim) |
| Densidade | 3,93 g/cm³ |
| Absorção de água | 0% |
| Resistência à flexão | 361 MPa |
| Tenacidade à fratura | 3–4 MPa·m¹/² |
| Dureza Vickers | 16 GPa |
| Módulo de Young | 380 GPa |
| Condutividade térmica | 32 W/m·k |
| Expansão térmica (25–1000°C) | 7,2×10⁻⁶/℃ |
| Rigidez dielétrica | 15×10⁶ V/m |
| Resistência específica | >10¹⁴ Ω·cm |
| Temperatura máxima de operação | 1600°C |
Aplicações:
- • Anéis de foco e anéis de borda da câmara CVD
- · Anéis de proteção da câmara PVD e anéis de fixação
- • Revestimentos da câmara de gravação e anéis de cobertura
- • Anéis de confinamento de plasma em sistemas de gravação dielétrica
Processo de fabricação:
Prensagem isostática → usinagem a verde → sinterização a 1600 °C → retificação interna/externa CNC → lapidação da superfície → limpeza ultrassônica → inspeção 100% por CMM. O acabamento superficial ultraliso (Ra ≤ 0,4 μm) minimiza a adesão de partículas.
Controle de qualidade:
- • Verificação dimensional de 100% (diâmetro interno, diâmetro externo, espessura, planicidade)
- • Inspeção por líquido penetrante para detecção de microfissuras superficiais
- • Teste de rigidez dielétrica conforme ASTM D149
- • Sem descoloração ou porosidade visíveis sob microscópio de 20×
Vantagens em relação aos anéis de metal ou quartzo:
- • Vida útil 5 a 10 vezes maior do que anéis de alumínio em plasma de flúor
- • Ausência de contaminação metálica em filmes finos
- • Maior resistência ao plasma do que o quartzo (sem corrosão por pite)
- • Mantém o isolamento elétrico acima de 10¹⁴ Ω·cm mesmo após uso prolongado.
Material alternativo — Nitreto de silício (Si₃N₄):
Para aplicações que exigem maior resistência à fratura (6,2 MPa·m¹/²) e melhor resistência ao choque térmico (coeficiente de expansão de 3,2×10⁻⁶/℃), anéis de Si₃N₄ estão disponíveis. No entanto, a alumina é mais econômica para a maioria das aplicações de CVD/PVD. Por favor, especifique sua preferência de material ao fazer o pedido.
Personalização:
- • Furos passantes, perfis escalonados ou rebaixos para montagem
- • Superfície revestida com Y₂O₃ para maior resistência ao plasma (opcional)
- • Gravação a laser do número da peça/código do lote
Observação:Os dados acima seguem rigorosamente a tabela de propriedades do Al₂O₃ fornecida. Para anéis de Si₃N₄, consulte a folha de dados separada do Si₃N₄ fornecida.
