Pino de suporte cerâmico para dispositivos de processo semicondutor.
Os pinos de suporte de cerâmica da St.Cera (também conhecidos como pinos de elevação ou pinos de apoio) são usados em câmaras de processamento de semicondutores para elevar wafers ou substratos durante o manuseio, aquecimento ou resfriamento. Fabricados com 99,8% de alumina ou nitreto de silício, esses pinos oferecem alta resistência à compressão, estabilidade térmica e resistência química. O design com ponta hemisférica ou plana evita arranhões no wafer.
Especificações(Alumina 99,8%):
| Propriedade | Valor |
| Material | 99,8% Al₂O₃ ou Si₃N₄ |
| Comprimento | 10 – 100 mm |
| Diâmetro | 1 – 10 mm |
| Formato da ponta | Plano, hemisférico, pontiagudo |
| Resistência à compressão (Al₂O₃) | >2000 MPa |
| Temperatura máxima de operação (Al₂O₃) | 1600°C |
| Acabamento da superfície | Lapidado (Ra ≤0,4 μm) |
| Tolerância no diâmetro | ±0,01 mm |
Aplicações:
Pinos de elevação em câmaras CVD/PVD
Pinos de suporte para assar em chapa quente
estruturas de suporte do cartão de sonda
suportes de barco de forno de quartzo
Fabricação:
Retificação de precisão sem centros do diâmetro externo → retificação diamantada do perfil da ponta → limpeza ultrassônica → inspeção dimensional de 100%.
Controle de qualidade:
Medição por máquina de medição por coordenadas (CMM) para comprimento/diâmetro, comparador óptico para raio da ponta, teste de carga para verificar a resistência à compressão (amostra aleatória por lote). Ausência de contaminação ferromagnética (verificada com ímã).
Vantagens em relação aos pinos de metal ou quartzo:
Vida útil 5 vezes maior que a do aço inoxidável.
Ausência de contaminação metálica na câmara de processo
Capacidade de suportar temperaturas superiores às do quartzo (1600°C contra 1100°C)
Superfície antiaderente (redução da adesão de partículas)
Personalização:
Múltiplos perfis de ponta, base roscada ou haste cônica.
Também fornecemos pinos de SiC para ambientes de plasma extremos.
